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自動勻膠顯影機的勻膠和顯影過程是如何實現(xiàn)的?

更新日期:2024-03-04       點擊次數(shù):1086
  自動勻膠顯影機是一種用于半導體制造、微電子、納米技術和光電器件等領域的關鍵設備。它主要用于在襯底上均勻涂覆光刻膠,并通過顯影過程將光刻圖案轉(zhuǎn)移到襯底上。勻膠和顯影過程的實現(xiàn)主要依賴于以下幾個步驟:
 
  1、襯底加載:首先將待處理的襯底放入自動勻膠顯影機的載片臺上。載片臺通常具有真空吸附功能,以確保襯底在處理過程中保持穩(wěn)定。
 
  2、勻膠過程:勻膠過程主要包括滴膠、旋轉(zhuǎn)涂布和溶劑蒸發(fā)三個階段。
 
  a)滴膠:在襯底中心滴上一定量的光刻膠。光刻膠的粘度、表面張力和滴膠量等參數(shù)需要根據(jù)襯底尺寸和所需膠層厚度進行精確控制。
 
  b)旋轉(zhuǎn)涂布:啟動載片臺旋轉(zhuǎn),通過離心力將光刻膠均勻分布在襯底表面。旋轉(zhuǎn)速度和時間需要根據(jù)光刻膠的性能和所需膠層厚度進行調(diào)整。
 
  c)溶劑蒸發(fā):在旋轉(zhuǎn)涂布過程中,部分溶劑會逐漸蒸發(fā),使光刻膠變得更加粘稠。通過控制環(huán)境的濕度和溫度,可以調(diào)整溶劑蒸發(fā)速率,從而獲得理想的膠層厚度和均勻性。
 
  3、前烘過程:勻膠完成后,需要對襯底進行預熱處理,以進一步去除光刻膠中的溶劑,提高膠層的附著力和穩(wěn)定性。前烘過程通常在熱板上進行,溫度和時間需要根據(jù)光刻膠的性能進行調(diào)整。
 

自動勻膠顯影機

 

  4、曝光過程:將前烘后的襯底送入光刻機進行曝光。光刻機通過投影系統(tǒng)將掩模圖案照射到襯底上的光刻膠層,使曝光區(qū)域的光刻膠發(fā)生光化學反應。
 
  5、顯影過程:曝光完成后,將襯底重新放回自動勻膠顯影機的顯影模塊。顯影過程主要包括以下步驟:
 
  a)噴涂顯影液:將顯影液均勻噴灑在襯底表面,使曝光區(qū)域的光刻膠溶解。
 
  b)浸泡顯影:將襯底浸入顯影液中,通過控制浸泡時間和顯影液的濃度、溫度等參數(shù),可以實現(xiàn)不同對比度和分辨率的圖案顯影。
 
  c)沖洗和干燥:用去離子水沖洗掉顯影液和溶解的光刻膠,然后通過旋轉(zhuǎn)或吹氣的方式將襯底表面的水分去除,得到清晰的光刻圖案。
 
  通過以上步驟,自動勻膠顯影機實現(xiàn)了襯底上光刻膠的均勻涂布和圖案的精確顯影,為后續(xù)的刻蝕、離子注入等工藝奠定了基礎。
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